Spojení: +420 272 660 644
Registrace Přihlásit se


Zapomenuté heslo

Chemické procesní inženýrství a simulační metody ITeoretické podklady

První díl skript seznamuje čtenáře se základy procesního inženýrství a uvádí přehled všeho, co student potřebuje pro pochopení nejdůležitějšího nástroje, kterým jsou principy simulačních metod. V textu jsou popsány stacionární modely jednotkových operací, které slouží jako stavební prvky pro modely celých procesů a současně jsou zde představeny metody řešení simulačních modelů. Publikace také obsahuje přehled fyzikálně-chemických metod, které jsou pro simulační modely klíčové. Kromě stacionární simulace je pozornost věnována i dynamickému chování procesů včetně řídicího systému. V textu je také vyhrazen prostor pro základy teorie grafů, používané k analýze proudových schémat a pro přehled vybraných numerických metod.
ISBN:978-80-7592-083-6
EAN:9788075920836
Doporučená cena:330 Kč
Počet stran 250 stran
Rozměr 210x297 mm
Datum vydání 26. 02. 2021
Pořadí vydání 1
Jazyk český
Vazba lepená brožura sešitá drátem ze strany
Autor: Tomáš Vaněk
Autor: Martin Kohout
Autor: Pavlína Basařová
Nakladatelství Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
Tématická skupina 999 - nezařazeno
Při poskytování služeb nám pomáhají cookies. Používáním webu s tím vyjadřujete souhlas. Další informace